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GMD2000/4 氣相二氧化硅分散機

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氣相二氧化硅分散機,氣相二氧化硅分散,氣相二氧化硅原本為納米級粒徑,分散時易團聚,難以分散機,傳統(tǒng)高速分散機無法分散*,存在死角。采用SGN研磨分散機,管線式結(jié)構(gòu),物料一進一出,物料*得到分散剪切。

氣相二氧化硅分散機,氣相白炭黑分散機,二氧化硅分散機,氣硅高速分散機,化工分散機,德國超細分散機

 

氣相二氧化硅,多孔性,無毒無味無污染,耐高溫。同時它具備的化學(xué)惰性以及特殊的觸變性能明顯改善橡膠制品的抗拉強度,抗撕裂性和耐磨性,橡膠改良后強度提高數(shù)十倍。液體系統(tǒng)、粘合劑、聚合物等的流變性與觸變性控制,用作防沉、增稠、防流掛的助劑,HCR與RTV-2K硅酮橡膠的補強,可用來調(diào)節(jié)自由流動和作為抗結(jié)塊劑來改善粉末性質(zhì)等等。

 

(價格電議:劉,)

 

<strong><strong><strong><strong>氣相二氧化硅分散機</strong></strong></strong></strong>

 

氣相*,主要涉及的應(yīng)用領(lǐng)域: 膠黏劑、涂料、油漆、油墨、電池、墨粉、醫(yī)藥、食品、塑料、造紙、化妝品、 硅橡膠、消泡劑、復(fù)合材料、飼料等各個領(lǐng)域。氣相法白炭黑,是一種白色、無毒、無味、無定形的無機精細化工產(chǎn)品。原子粒徑在7~40納米,比表面積在70~400m/g,具有良好的補強、增稠、觸變、消光、抗紫外線和殺菌等多種作用。

 

氣相二氧化硅分散,氣相二氧化硅原本為納米級粒徑,分散時易團聚,難以分散機,傳統(tǒng)高速分散機無法分散*,存在死角。采用SGN研磨分散機,管線式結(jié)構(gòu),物料一進一出,物料*得到分散剪切。

 

氣相二氧化硅無論分散水中還是有機溶劑中,解決團聚問題至關(guān)重要,SGN研磨分散機是膠體磨和分散機合并而成的新設(shè)備,*級為膠體磨頭主要可以打開二級團聚體,第二級為分散盤定轉(zhuǎn)子,可以瞬間對物料進行剪切分散,從而避免物料的再次團聚。并且可以還原原始的氣相二氧化硅的納米物料粒徑,分散更加均勻。

 

<strong><strong><strong><strong>氣相二氧化硅分散機</strong></strong></strong></strong>

 

SGN研磨分散機,GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

 

SGN氣相二氧化硅分散機的特點:

 

1、轉(zhuǎn)速提高,SGN分散機采用分體式結(jié)構(gòu),而傳統(tǒng)分散機采用直連結(jié)構(gòu)(電機和分散軸直連),分體式結(jié)構(gòu)通過皮帶變速,轉(zhuǎn)速提高到14000rpm,當(dāng)然剪切力更高!

2、特殊結(jié)構(gòu),膠體磨+分散機的新型結(jié)構(gòu),初級為膠體磨頭、二級為分散盤定轉(zhuǎn)子,納米物料可以一步到位的進行研磨分散。

3、采用博格曼雙端面機械密封,并設(shè)緩沖冷卻循環(huán)系統(tǒng),在保證冷卻水的前提可24小時連續(xù)運行,滿足大工業(yè)化生產(chǎn)。

 

GMD2000系列研磨式分散設(shè)備選型表

 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

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