液質(zhì)聯(lián)用儀維修范圍:
(1)質(zhì)譜主機(jī)(包括分子渦輪泵,電路板,離子源等),機(jī)械泵,液相主機(jī)(包括泵,自動(dòng)進(jìn)樣器,柱溫箱,系統(tǒng)控制器),控制電腦。不包括UPS和氣體發(fā)生器。
(2)響應(yīng)時(shí)間:在一小時(shí)內(nèi)電話(huà)響應(yīng)。如需要現(xiàn)場(chǎng)維修,在報(bào)修后的第二天上門(mén)維修,包括周六.
PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容
第一部分:維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄
A. 氣體檢查、真空檢查;
B. Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄;
C. Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄;
D. PPG MS/MS 測(cè)試;
E. Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;
F. Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;
第二部分:維護(hù)過(guò)程部分
A. 檢查儀器的輸入電壓是否正常;
B. 檢查儀器所有的輸入氣體壓力是否正常;
C. 檢查離子源各個(gè)接頭是否有堵塞或漏液情況,并通過(guò)超聲波清洗兩通接頭和噴霧出口部分;
D. 檢查離子源是否有漏氣情況;
E. 檢查離子源內(nèi)PEEK管,發(fā)現(xiàn)堵塞時(shí)更換,清洗離子源流路;
F. 分別在正負(fù)離子模式下檢查離子源高壓是否正常,清洗離子源內(nèi)壁;
G. 分別在正負(fù)離子模式下檢查L(zhǎng)ENS電路板上各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的電壓是否正常;
H. 檢查并優(yōu)化檢測(cè)器電壓;
I. 根據(jù)維護(hù)前做的測(cè)試實(shí)驗(yàn),停機(jī)清洗LINAC,Q1和Q3,清洗接口部分(interface,Oriface內(nèi)部,Qjet,curtain plate)和四極桿;
J. 檢查機(jī)械泵,清洗機(jī)械泵濾網(wǎng);
K. 檢查空氣過(guò)濾網(wǎng),堵塞時(shí)更換;
L. 用壓縮空氣吹洗儀器內(nèi)部的灰塵,消除潛在的故障隱患;
M. 檢查操作儀器的工作站,清除不必要的程序并壓縮整理磁盤(pán);
第三部分 維護(hù)后實(shí)驗(yàn)結(jié)果和記錄:
A. 實(shí)驗(yàn)前檢查儀器真空度是否正常,調(diào)節(jié)RF;
B. 調(diào)節(jié)優(yōu)化離子源參數(shù),用標(biāo)準(zhǔn)品分別做Q1、Q3正負(fù)離子模式下實(shí)驗(yàn),記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果
第四部分 本次維護(hù)保養(yǎng)總結(jié)
A. 清洗離子源、curtain plate、orifice plate、skimmer、Q0、Q1、Q3。
B. 電路板除塵, 儀器清灰。
C. 測(cè)試LENS電壓,電壓值均符合要求。
D. 調(diào)試Q1、Q3正負(fù)離子模式PPG信號(hào)