IPG鐘表鍍膜、IPS鐘表鍍膜、IP槍鐘表鍍膜，多功能離子鍍膜設備，該系列設備主要是（集）直流磁控濺射， 中頻濺射和電弧離子蒸發(fā)三種技術融合一體，結(jié)合線性離化源及脈沖偏壓鍍膜可使沉積顆粒細化．膜層各 項性能提高，不僅能在金屬制品及非金屬表面鍍制合金膜、化合物膜、多層復合膜等。經(jīng)公司技術人員多 年專注研發(fā)，通過*的陰極電弧離子和非平衡磁控系統(tǒng)，開發(fā)出整套PROPOWER系列計算機自動控制離 子系統(tǒng)，使鍍膜膜層附著力致密度、從復度*性等特點，解決了人工手動操作復雜性、膜層顏色不* 等問題。設備廣泛適用于手表、手機殼、五金、潔具、餐具及要求耐磨起硬的*、模具等。鍍制TiN、 TiCN、CrN、TiALN、TiNbu、TiCrN、ZrN、TiNC及各類金鋼石膜（DLC）。
1、磁控濺射的原理是基于陰 極輝光放電理論，把陰極表面磁場擴展到接近工件表面，提高了濺射原子離化率。既保留磁控濺射的細膩 又增強了表面光澤度。
2、電弧等離子體蒸發(fā)源性能可靠，在優(yōu)化陰極及磁場結(jié)構鍍膜時可在30A電 流下工作，鍍膜膜層和基底界面產(chǎn)生原子擴散，又具有離子束輔助沉積的特點。