該系列生產(chǎn)線主要用于在平板玻璃、壓克力、PC、PET等表面鍍高質(zhì)量、多功能金屬膜、電磁屏蔽膜、反應(yīng)膜、復(fù)合膜、透明導(dǎo)電膜、抗反射（AR）、增反射膜、LOw—E等膜層。本公司可按用戶要求提供設(shè)計(jì)，提供全套設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝，按交“鑰匙”工程服務(wù)。
        設(shè)備特點(diǎn)：
  1、設(shè)備采用真空磁控濺射技術(shù)，孿生陰極，中頻濺射技術(shù)，并配以*的控制系統(tǒng)．
  2、生產(chǎn)過程全部自動，連續(xù)進(jìn)行。被鍍工件加熱溫度zui高可達(dá)350℃，溫度分區(qū)控制可調(diào)，
  3、真空室體材料采用SUS304，真空室內(nèi)壁進(jìn)行拋光處理，外壁采用拋光后 噴珠處理。
  4、真空室之間采用獨(dú)立門閥隔開，我們設(shè)計(jì)的是插板閥，可以有效隔斷，穩(wěn)定工藝氣體。目前國內(nèi)只有我們公司具有這項(xiàng)技術(shù)設(shè)計(jì)生產(chǎn)插板閥，它比目前國內(nèi)通用的翻板閥密封效果更好，更耐用．
  5、傳動采用磁導(dǎo)向，保障傳動的穩(wěn)定性。整條生產(chǎn)線的各段速度采用變頻調(diào)速電機(jī)驅(qū)動，運(yùn)行速度可調(diào)節(jié)
  6、電氣控制系統(tǒng)：觸膜屏與P L C自動控制，人機(jī)對話方式來實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)的數(shù)據(jù)顯示、操作與控制
  7、主要技術(shù)參數(shù)：
  8、極限真空壓力：7×10-4Pa    9、平均生產(chǎn)周期：8 0秒／架
  10、基片架尺寸：8 5 0×1 5 0 0（mm）（可以根據(jù)要求定做）
  11、膜層均勻性：±2％
  12、膜層穩(wěn)定性：達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)