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公司動態(tài)

新式全程綜合水處理器運行詳述

閱讀:185          發(fā)布時間:2019-1-24

一:新式全程綜合水處理器運行詳述 概述

       全程綜合水處理器通過長期實踐證明,在現(xiàn)今的水系統(tǒng)中普遍存在有結(jié)垢、腐蝕、污泥、在微生物繁殖等四大主要危害。水系統(tǒng)尤其是循環(huán)水系統(tǒng)的水質(zhì)問題往往是綜合性的。以往采用的水處理設(shè)備由于單臺設(shè)備功能的局限性無法解決,因此需要通過進(jìn)一步的實用技術(shù)加以解決。我公司通過采用高頻技術(shù)與電能磁場效應(yīng)的結(jié)合方式,針對電化學(xué)腐蝕、結(jié)垢、菌藻繁殖的不同問題,采用多重頻段及靜電高壓組合,設(shè)計制造了綜合水處理器。

二:新式全程綜合水處理器運行詳述原理

      綜合水處理器首先采用高頻技術(shù),利用高頻電場力的作用使水活化,水中的Ca2+、Mg2+離子的運動速度降低,與水中的CO32-、SO42-等離子有效碰撞次數(shù)減少,靜電引力下降,所以受熱壁或管表而無法結(jié)垢,從而達(dá)到防垢的目的。高頻電磁場使力的滲透力與溶解度增大,并對金屬表面的水垢薄弱環(huán)節(jié)縱向滲透到金屬表面后,開始沿金屬與水垢表面橫向滲透,使水垢呈片狀脫離金屬表面,從而達(dá)到除垢的目的。微電環(huán)境可遏制微生物的生長,破壞其生存環(huán)境,另外設(shè)備工作過程中生成的活性氧自由基,具有損傷生物大分子,改變菌類、藻類生存的生物場等作用以達(dá)到殺菌、滅藻的目的。

三:新式全程綜合水處理器運行詳述參數(shù)

1消耗功率:<120W~600W

2 工作環(huán)境要求:溫度-25℃~+50℃   相對溫度<95%

3 工作溫度(被處理介質(zhì)溫度):-25℃~+50℃

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