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上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
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上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)GMD2000
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地上海市
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更新時(shí)間：2019-06-10 16:07:04瀏覽次數(shù)：545次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 泵閥商務(wù)網(wǎng)北京納米二氧化硅分散液研磨分散機(jī)，思峻（SGN）研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
一、產(chǎn)品名稱(chēng)概述：
北京納米二氧化硅分散液研磨分散機(jī)，ox50納米氧化硅分散液分散機(jī)，連續(xù)式研磨分散機(jī)，改進(jìn)型膠體磨研磨分散機(jī)
二、基本和物料介紹：
1.思峻（SGN）研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。
2.二氧化硅水分散體在拋光應(yīng)用(CMP)、紙業(yè)(噴墨)或在玻璃生產(chǎn)中使用。出于經(jīng)濟(jì)和實(shí)際應(yīng)用原因，在這些應(yīng)用中使用具有高二氧化硅粉末含量的分散體是理想的。
3.含有火焰水解反應(yīng)工藝生產(chǎn)的二氧化硅并且不含穩(wěn)定劑的水分散體僅在填充含量低于30重量％時(shí)表現(xiàn)出可接受的穩(wěn)定性。當(dāng)填充含量更高時(shí)，其在非常短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生凝結(jié)或沉降。
4.納米二氧化硅具有極小的粒徑、較大的比表面積和優(yōu)良的化學(xué)性能，表現(xiàn)出良好的親水性、補(bǔ)強(qiáng)性、增稠性、消光性和防茹結(jié)性，因此廣泛應(yīng)用于橡膠、涂料、醫(yī)藥、油墨等領(lǐng)域。由于粉體的納米二氧化硅的表面親水疏油，呈強(qiáng)極性，在有機(jī)介質(zhì)中難以均勻分散，從而導(dǎo)致材料性能下降。
5.現(xiàn)有技術(shù)中，通常是在納米顆粒膠體物系中加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)，使之吸附在顆粒表面是防止納米顆粒團(tuán)聚生長(zhǎng)的有效方法，這樣可以提高二氧化硅分散液的穩(wěn)定性。但總體說(shuō)來(lái)，通過(guò)加入電解質(zhì)、表面活性劑、聚電解質(zhì)作用針對(duì)分散相，并未實(shí)質(zhì)與納米二氧化硅顆粒結(jié)合，因此導(dǎo)致其制備的分散液的分散性均不理想。
6.納米二氧化硅分散到液體之后，依據(jù)不同的分散體系，其外觀從白色乳狀到無(wú)色透明。從檢測(cè)上來(lái)看D90<100納米以下的體系，在外觀上都呈現(xiàn)視覺(jué)透明的狀態(tài)。納米的分散是一個(gè)世界性的技術(shù)難題?？上驳氖悄壳俺霈F(xiàn)了某些技術(shù)，使用某些納米顆?？梢越馍⒌絾畏稚⒌臓顟B(tài)。其中之一就有納米二氧化硅。
三、設(shè)備介紹：
1.上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。
2.研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：
①線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
3.設(shè)備其它參數(shù):
設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器
4.從設(shè)備角度來(lái)分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn)：
①研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）
②研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）
③研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好）
④物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）
⑤循環(huán)次數(shù)（越多效果越好，到設(shè)備的期限就不能再好了。）
5.線速度的計(jì)算：
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
轉(zhuǎn)子的線速率
在種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
四、二氧化硅超高速研磨分散機(jī)參數(shù)表：
流量*
| 輸出
| 線速度
| 功率
| 入口/出口連接
| ||
類(lèi)型
| l/h
| rpm
| m/s
| kW
|
| |
GMD 2000/4
| 300
| 9,000
| 23
| 2.2
| DN25/DN15
| |
GMD 2000/5
| 3000
| 6,000
| 23
| 7.5
| DN40/DN32
| |
GMD 2000/10
| 8000
| 4,200
| 23
| 22
| DN80/DN65
| |
GMD 2000/20
| 20000
| 2,850
| 23
| 37
| DN80/DN65
| |
GMD 2000/30
| 40000
| 1,420
| 23
| 55
| DN150/DN125
| |
GMD2000/50
| 120000
| 1,100
| 23
| 110
| DN200/DN150
| |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大量的10%。
| ||||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和ZUI終產(chǎn)品的要求。
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