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EDI超純水設(shè)備

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更新時(shí)間：2023-07-05 10:32:55瀏覽次數(shù)：145次

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蘇州凱旭凈化設(shè)備有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

EDI超純水設(shè)備(二級(jí)反滲透+EDI+拋光混床)
原理及簡(jiǎn)介：
凱旭超純水設(shè)備反滲透系統(tǒng)出水電導(dǎo)率≤2-5μs/cm(25℃)進(jìn)入EDI系統(tǒng)， Electrodeionization 簡(jiǎn)稱EDI是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)ZS

詳細(xì)介紹

EDI超純水設(shè)備(二級(jí)反滲透+EDI+拋光混床)
原理及簡(jiǎn)介：
凱旭超純水設(shè)備反滲透系統(tǒng)出水電導(dǎo)率≤2-5μs/cm(25℃)進(jìn)入EDI系統(tǒng)， Electrodeionization 簡(jiǎn)稱EDI是將電滲析膜分離技術(shù)與離子交換技術(shù)有機(jī)地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技術(shù)，它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹脂進(jìn)行電化學(xué)ZS，再通過拋光混床系統(tǒng)達(dá)到電子級(jí)用水標(biāo)準(zhǔn)即電阻率≥18.2MΩ·cm(25℃)。
EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽離子透過陽離子交換膜，陰離子透過陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹脂進(jìn)行連續(xù)的ZS。傳統(tǒng)的離子交換樹脂飽和后需要化學(xué)間歇ZS。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)ZS，工作是連續(xù)的，不需要酸堿化學(xué)ZS。
EDI超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：
EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)、操作簡(jiǎn)便、是清潔生產(chǎn)技術(shù)，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫(yī)藥工業(yè)、化工工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應(yīng)用。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、大規(guī)模、大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。
超純水設(shè)備技術(shù)優(yōu)點(diǎn)：
EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)(MB-DI)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點(diǎn):
1、離子交換樹脂的用量少，約相當(dāng)于傳統(tǒng)離子交換法樹脂用量的5%。
2、離子交換樹脂不需酸，堿化學(xué)ZS，節(jié)約大量酸、堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
3、無廢酸、廢堿液排放，是清潔的生產(chǎn)技術(shù)。
4、過程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，與RO等水處理技術(shù)相結(jié)合，能形成完善的純水、超純水生產(chǎn)線。
5、產(chǎn)水水質(zhì)高，可達(dá)到國(guó)家電子級(jí)水I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，電阻率為18MΩ·cm。
6、純水生產(chǎn)過程連續(xù)進(jìn)行，無需像離子交換床那樣一套在用一套ZS地重復(fù)設(shè)置。