我國雖然半導體材料產(chǎn)業(yè)起步較晚，但是發(fā)展比較迅猛。那么熟悉半導體領域的人都知道硅晶圓，硅晶圓是半導體的核心，也是成本占比最高的材料，純度也超高，是一種為了制成半導體基體電路的原材料。

　　這是半導體電路的重要組成，硅晶圓高質(zhì)量地產(chǎn)出對于半導體產(chǎn)業(yè)來說至關重要。因為其要求高，其余對生產(chǎn)中的清洗用水要求也較高，需要使用達到一定標準的超純水，這樣才能不影響硅晶圓產(chǎn)出質(zhì)量，那么什么樣的超純水設備才能產(chǎn)出高質(zhì)量的超純水?

　　目前常見的超純水設備核心工藝為“預處理+反滲透+EDI+拋光混床”的組合形式。這樣的超純水設備具有高效低能、運行成本低，水資源利用率高、體積較小、維修量小，運行時間長等優(yōu)點。其中，應用的EDI模塊，在運行時是不需要添加任何化學品的，不僅減少了化學品運輸問題，同時降低了系統(tǒng)運行費用。本模塊不會有酸堿廢液產(chǎn)生，所以不需要酸堿中和池，一般情況下，EDI水處理系統(tǒng)產(chǎn)出的濃水可以回收再利用。

　　萊特萊德的超純水設備設置了不合格產(chǎn)水自動回流系統(tǒng)，EDI系統(tǒng)出水電阻率低于15兆歐時，產(chǎn)水自動回流至EDI進水箱，使其再一次被EDI系統(tǒng)處理，保證EDI產(chǎn)水水質(zhì)的穩(wěn)定，同時也保證了后端拋光樹脂的使用壽命。

　　這類的超純水設備可以更好的，連續(xù)的，穩(wěn)定的制備高品質(zhì)的超純水，采用的設計結(jié)構(gòu)相對靠近，所以其占地非常小，可以為企業(yè)節(jié)省很多空間，在符合硅晶圓生產(chǎn)用水水質(zhì)標準的同時可以使水資源的利用率達到95%~99%，有效提升了水資源利用率。

　　隨著我國科技半導體產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展與壯大，未來將帶動產(chǎn)業(yè)上下游共同發(fā)展，并且硅晶圓的產(chǎn)出質(zhì)量也將越來越高。