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CMD2000/4 改良型膠體磨

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改良型膠體磨,上海IKN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

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改良型膠體磨,這種*的設(shè)計(jì),放眼世界,獨(dú)上海IKN一家,更多關(guān)于改進(jìn)型膠體磨的信息,請(qǐng)接洽上依肯!

                          

改進(jìn)型膠體磨,研磨分散機(jī),簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時(shí)具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時(shí)間差因素。從成本上來講,原先兩臺(tái)設(shè)備的價(jià)格,現(xiàn)在用一臺(tái)研磨分散機(jī)就可以完成,性價(jià)比更高。


CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。


*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。    第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。



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CMD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

改進(jìn)型膠體磨,研磨分散機(jī),研磨均質(zhì)機(jī),研磨乳化機(jī),全新的設(shè)計(jì)理念,超高設(shè)備剪切力,以及穩(wěn)定的設(shè)備運(yùn)行,IKN為廣大企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)的設(shè)備服務(wù)!


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