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CMD2000/4 中試型研磨分散機(jī)

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CMD2000/4中試型研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到Z低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

中試型研磨分散機(jī),實(shí)驗(yàn)室中試研磨分散機(jī),中試型分散機(jī),中試型研磨機(jī),專為實(shí)驗(yàn)室研發(fā),模擬生產(chǎn)流程,為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同,且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同,中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整,而將機(jī)器型號(hào)升級(jí)過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到zui低。

中試型研磨分散機(jī)是在中試型膠體磨的基礎(chǔ)上加入了一組分散盤(pán),剪切細(xì)化能力要強(qiáng)于高剪切膠體磨。
      
CMD2000/4中試型研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,
該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變更為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

        
CMD2000/4中試型研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

   
 IKN中試型研磨分散設(shè)備的膠體磨頭有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級(jí)磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿足細(xì)化要求。*級(jí)刀頭形狀,可以把相對(duì)大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過(guò)更細(xì)的兩級(jí)進(jìn)行細(xì)微化研磨。     磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級(jí)磨齒,但他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。

     
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CMD2000/4中試型研磨分散設(shè)備有一定輸送能力,對(duì)高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送。
           
CMD2000膠體磨標(biāo)準(zhǔn)配置所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼。 特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷。    
CMD2000膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。CM2000設(shè)計(jì)耐受溫度范圍為-20°C-180°C。 可供選擇的選配部件有: -動(dòng)密封動(dòng)靜環(huán)材質(zhì)搭配(碳化硅,合金等) -靜態(tài)密封圈材質(zhì)選型(是否有腐蝕性物料,酸堿度等) -磨頭定轉(zhuǎn)子材質(zhì)(不銹鋼,碳化鎢鈷,三氧化二鋁等) -是否需要我司配置電控柜。

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