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返回產(chǎn)品中心CMD2000 二氧化硅高速分散機(jī)
參考價(jià) | ¥ 108900 |
訂貨量 | ≥1 件 |
- 公司名稱 上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 上海市
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2022/8/26 16:10:09
- 訪問次數(shù) 814
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上海依肯CMD2000二氧化硅高速分散機(jī):
超高速分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是Z重要的。根據(jù)行業(yè)特殊要求,上海依肯在CMD2000系列。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。
二氧化硅高速分散機(jī),二氧化硅納米分散機(jī),二氧化硅高剪切分散機(jī),二氧化硅研磨分散機(jī)
【簡單介紹】
納米二氧化硅
納米二氧化硅是極其重要的高科技超微細(xì)無機(jī)新材料之一,因其粒徑很小,比表面積大,表面吸附力強(qiáng),表面能大,化學(xué)純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能,以其*的穩(wěn)定性、補(bǔ)強(qiáng)性、增稠性和觸變性,在眾多學(xué)科及領(lǐng)域內(nèi)*特性,有著不可取代的作用。
【詳細(xì)說明】
納米二氧化硅
納米二氧化硅是極其重要的高科技超微細(xì)無機(jī)新材料之一,因其粒徑很小,比表面積大,表面吸附力強(qiáng),表面能大,化學(xué)純度高、分散性能好、熱阻、電阻等方面具有特異的性能,以其*的穩(wěn)定性、補(bǔ)強(qiáng)性、增稠性和觸變性,在眾多學(xué)科及領(lǐng)域內(nèi)*特性,有著不可取代的作用。納米二氧化硅俗稱“超微細(xì)白炭黑”,廣泛用于各行業(yè)作為添加劑、催化劑載體,石油化工,脫色劑,消光劑,橡膠補(bǔ)強(qiáng)劑,塑料充填劑,油墨增稠劑,金屬軟性磨光劑,絕緣絕熱填充劑,高級日用化妝品填料及噴涂材料、醫(yī)藥、環(huán)保等各種領(lǐng)域。
納米二氧化硅的傳統(tǒng)分散方法主要有:
研磨分散:利用三輥機(jī)或多輥機(jī)的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內(nèi)向旋轉(zhuǎn),部分研磨料進(jìn)入加料縫并受到強(qiáng)大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強(qiáng)大的剪切力作用。經(jīng)過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到刮處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經(jīng)幾次循環(huán),可達(dá)到分散的目的。但用三輥機(jī)或多輥機(jī)進(jìn)行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產(chǎn)的需求。
球磨分散:通過球磨機(jī)中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時(shí)使混合物在球的空隙內(nèi)受到高度湍動(dòng)混合作用而被均勻地分散。
砂磨分散:砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質(zhì)是用微細(xì)的珠或砂。砂磨機(jī)可連續(xù)進(jìn)料,納米粉體的預(yù)混合漿通過圓筒時(shí),在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區(qū)通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機(jī)和砂磨機(jī)分散能取得較好的分散效果及物料細(xì)度,但球磨機(jī)和砂磨機(jī)同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點(diǎn)。
上海依肯CMD2000二氧化硅高速分散機(jī):
超高速分散機(jī)的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是***重要的。根據(jù)行業(yè)特殊要求,上海依肯在CMD2000系列。其剪切速率可以超過100.00 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達(dá)到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強(qiáng)粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設(shè)備。
CMD設(shè)備與傳統(tǒng)設(shè)備比較:
高效、節(jié)能傳統(tǒng)設(shè)備需8小時(shí)的分散加工過程,CMD設(shè)備1小時(shí)左右完成,超細(xì)分散*,能耗*降低;高速、高品質(zhì)傳統(tǒng)設(shè)備的攪拌轉(zhuǎn)速每分鐘幾十轉(zhuǎn),帶分散功能的轉(zhuǎn)速每分鐘1500轉(zhuǎn)以內(nèi),只完成宏觀分散加工,超細(xì)分散能力極為有限;ERS設(shè)備的轉(zhuǎn)速每分鐘10000~15000轉(zhuǎn)之間,超高線速度產(chǎn)生的剪切力,瞬間超細(xì)分散漿料中的粉體。
多層多向剪切分散
改性白炭黑膠體磨在設(shè)計(jì)上的突出優(yōu)點(diǎn)在于:
1、轉(zhuǎn)速***高可達(dá)14000轉(zhuǎn),相較其它廠家2900轉(zhuǎn)左右高出約三倍:
2、磨頭結(jié)構(gòu)更精密并有*設(shè)計(jì),使之研磨作用力更大,效果更好。
3、德國進(jìn)口雙端面機(jī)械密封擁有*結(jié)構(gòu)和特殊材質(zhì)保證高速運(yùn)轉(zhuǎn)和長使用壽命。
4、CMD2000/5中試型研磨機(jī)與大型工業(yè)管線式量產(chǎn)機(jī)型配置基本相同。各種工作頭的種類及相應(yīng)線速度相同,中試過程中的工藝參數(shù)在工業(yè)化后之后不用重新調(diào)整,從而將機(jī)器型號升級到工業(yè)化的過程中的風(fēng)險(xiǎn)降到***低。
改性白炭黑膠體磨是由膠體磨、乳化分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯斔托缘囊蠓矫?,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。
改性白炭黑膠體磨的技術(shù)參數(shù):
型號 | 流量 | 轉(zhuǎn)速 | 線速度 | 功率 | 入/出口連接 |
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CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
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CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
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CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
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CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
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CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
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| 流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到***大允許量的10%。 | ||||||
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二氧化硅高速分散機(jī),二氧化硅納米分散機(jī),二氧化硅高剪切分散機(jī),二氧化硅研磨分散機(jī)
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