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CMD2000 石墨烯改性芳香聚酰胺研磨分散機(jī)

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石墨烯改性芳香聚酰胺研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

石墨烯改性芳香聚酰胺研磨分散機(jī),石墨烯改性聚酰胺高剪切分散機(jī),德國(guó)研磨分散機(jī),新型研磨分散機(jī),改進(jìn)型研磨分散機(jī),高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī),德國(guó)進(jìn)口研磨分散機(jī),IKN立式研磨分散機(jī),14400超高速研磨分散機(jī)

 

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

 

 

氧化石墨烯涂層改性的芳香聚酰胺反滲透膜屬于水處理膜制備技術(shù)領(lǐng)域。該反滲透膜包括基底支撐層、中間多孔承托層、超薄致密分離層和氧化石墨烯涂層四個(gè)部分;氧化石墨烯涂層厚度為50~150nm。本發(fā)明將氧化石墨烯涂覆在致密分離層表面,可有效提高復(fù)合反滲透薄膜的脫鹽率、抗污染性能和抗氯性能,同時(shí)降低所需工作壓力。

 

隨著工業(yè)的發(fā)展,水污染及淡水資源短缺是當(dāng)今面臨的大的挑戰(zhàn)之一。為解決當(dāng)前嚴(yán)重的淡水危機(jī),海水淡化得到越來(lái)越多的關(guān)注。目前,主要的海水淡化脫鹽技術(shù)包括反滲透、多效蒸餾、多級(jí)閃蒸和電滲析。其中,應(yīng)用反滲透膜的反滲透法是節(jié)能的海水淡化技術(shù)。然而,目前所采用的傳統(tǒng)聚酰胺高分子反滲透膜主要通過(guò)制造納米孔起到截留鹽離子的作用,脫鹽性能上還存在諸多不足,如膜的產(chǎn)水量較低、抗污染和抗氯性能較差、所需外壓較大,脫鹽率還存在一定的提升空間等。

 

為了改善傳統(tǒng)反滲透膜的親水性、水和離子傳輸通道等,從而有效提高復(fù)合反滲透薄膜的脫鹽率、抗污染性能和抗氯性能,同時(shí)降低所需工作壓力,節(jié)省能耗并降低成本,本發(fā)明提供一種氧化石墨烯涂層改性的芳香聚酰胺反滲透膜

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上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國(guó)產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

 

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì),可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

 

從設(shè)備角度來(lái)分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計(jì)算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個(gè)zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對(duì)于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

 

IKN研磨分散機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域:

  1. 精細(xì)化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹(shù)脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹(shù)脂乳化、炭墨分散
  2. 石油化工、潤(rùn)滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
  3. 農(nóng)藥化肥 、化肥、農(nóng)藥乳化、農(nóng)藥助劑、農(nóng)藥中間體、藥乳油、殺蟲(chóng)劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復(fù)合肥、乳油濕性粉劑
  4. 生物醫(yī)藥、細(xì)胞漿化、血清疫苗、蛋白質(zhì)分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
  5. 日用化工、護(hù)膚霜、護(hù)膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精
  6. 食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
  7. 涂料油墨、內(nèi)外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤(rùn)土

 

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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