芯片超純水設(shè)備
芯片超純水設(shè)備產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹(shù)脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹(shù)脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子交換膜，陰離子透過(guò)陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹(shù)脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。

芯片超純水設(shè)備
芯片超純水設(shè)備產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
EDI膜堆主要由交替排列的陽(yáng)離子交換膜、濃水室、陰離子交換膜、淡水室和正、負(fù)電極組成。在直流電場(chǎng)的作用下，淡水室中離子交換樹(shù)脂中的陽(yáng)離子和陰離子沿樹(shù)脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移，陽(yáng)離子透過(guò)陽(yáng)離子交換膜，陰離子透過(guò)陰離子交換膜，分別進(jìn)入濃水室形成濃水。同時(shí)EDI進(jìn)水中的陽(yáng)離子和陰離子跟離子交換樹(shù)脂中的氫離子和氫氧根離子交換，形成超純水(高純水)。電流使水電解產(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹(shù)脂進(jìn)行連續(xù)的，工作是連續(xù)的。
芯片超純水設(shè)備產(chǎn)品特點(diǎn)：
EDI可代替?zhèn)鹘y(tǒng)的混合離子交換技術(shù)(MB-DI)生產(chǎn)穩(wěn)定的去離子水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有以下優(yōu)點(diǎn):
1、離子交換樹(shù)脂的用量少，約相當(dāng)于傳統(tǒng)離子交換法樹(shù)脂用量的5%。
2、離子交換樹(shù)脂不需酸，節(jié)約大量酸、堿和清洗用水，降低勞動(dòng)強(qiáng)度。
3、無(wú)廢酸、廢堿液排放，是清潔的生產(chǎn)技術(shù)。
4、過(guò)程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，與RO等水處理技術(shù)相結(jié)合，能形成完善的純水、超純水生產(chǎn)線。
5、產(chǎn)水水質(zhì)高，可達(dá)到國(guó)家電子級(jí)水I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)，電阻率為18MΩ·cm。
6、純水生產(chǎn)過(guò)程連續(xù)進(jìn)行，無(wú)需像離子交換床那樣一套在用一套地重復(fù)設(shè)置
適用范圍：
EDI超純水技術(shù)具有技術(shù)、操作簡(jiǎn)便，是清潔生產(chǎn)技術(shù)，在微電子工業(yè)、電力工業(yè)、醫(yī)藥工業(yè)、化工工業(yè)和實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域得到日趨廣泛的應(yīng)用。
新興的光電材料生產(chǎn)、加工、清洗;LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏、高品質(zhì)燈管顯像管、微電子工業(yè)、FPC/PCB線路板、電路板、集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對(duì)水質(zhì)的要求也越高，這也對(duì)超純水處理工藝及產(chǎn)品的簡(jiǎn)易性、自動(dòng)化程度、生產(chǎn)的連續(xù)性、可持續(xù)性等提出了更加嚴(yán)格的要求。