循環(huán)水中的腐蝕從原理上講主要是電化學(xué)腐蝕即“微電池效應(yīng)”，“防腐儀”的工作原理就是削弱、抑制原電池效應(yīng)。是利用物理方法，在不改變水的生化屬性的前提下，通過電能的轉(zhuǎn)換，向水中饋散射頻波來達(dá)到控制和緩解金屬在水中的腐蝕。

防腐儀

綜述

循環(huán)水中的腐蝕從原理上講主要是電化學(xué)腐蝕即“微電池效應(yīng)”，“防腐儀”的工作原理就是削弱、抑制原電池效應(yīng)。是利用物理方法，在不改變水的生化屬性的前提下，通過電能的轉(zhuǎn)換，向水中饋散射頻波來達(dá)到控制和緩解金屬在水中的腐蝕。水經(jīng)過處理后，其原電池形成的必要條件“電解質(zhì)”—水的電導(dǎo)率顯著下降；利用“ 附肌效應(yīng)”理論在水流經(jīng)的管道內(nèi)壁形成動態(tài)的負(fù)電荷富態(tài)層，從而逐漸削弱抑制電化學(xué)腐蝕，使其腐蝕產(chǎn)物Fe2O3,轉(zhuǎn)化為穩(wěn)態(tài)的Fe3O4達(dá)到以銹治銹，從根本上控制腐蝕的目的。對于智能化要求較高的系統(tǒng)，可選用“智能型防腐儀”， “智能型防腐儀”是在普通“防腐儀”的基礎(chǔ)上增加了水質(zhì)綜合檢測儀器，當(dāng)水質(zhì)濃縮、惡化、超標(biāo)時，可實現(xiàn)聲光報警。

防腐儀應(yīng)用范圍
　　自來水、冷凍水、冷卻水、采暖水、洗浴水、地下水、泳池水、工業(yè)用水等眾多領(lǐng)域防垢除垢、防腐除銹、殺菌滅藻。
防腐儀技術(shù)特點
　　機電一體化設(shè)計，體積小，流量大，純物理方式處理，不污染水質(zhì)，運行管理費用極低，操作簡單，維修方便。

防腐儀功能參數(shù)

防腐儀適應(yīng)水質(zhì)：總硬度≤700mg/l（CaCO3）
　　防腐儀控制腐蝕率 ≤0.092毫米/年　防垢除垢效率≥95％　殺菌滅藻≥97％ 
　　防腐儀壓力損失：≤0.02MPa
　　防腐儀工作電源：190～250V　　50～60Hz
　　防腐儀安全絕緣電壓：5000V
　　防腐儀工作環(huán)境要求：－25℃ ～＋50℃ 相對濕度≤95％ 
　　防腐儀工作介質(zhì)溫度：－25℃ ～＋90℃        消耗功率：≤340W
　　防腐儀平均*時間：不小于50000小時

           防腐儀規(guī)格型號一覽表

（如產(chǎn)品更新?lián)Q代，設(shè)備規(guī)格有所變動，恕不另行通知）

型號含義：DCH -200A1.0SP-A：DCH表示德誠合信系列產(chǎn)品，200表示設(shè)備進(jìn)出口管徑為DN200mm，1.0表示壓力范圍小于1.0MPa，SP表示射頻水處理，A表示防腐儀，選型時根據(jù)需要確定型號。表中帶括弧的尺寸為擴容型號的尺寸。

注：K型表示擴容結(jié)構(gòu)；Z表示直通結(jié)構(gòu)。

防腐儀選用說明

1．設(shè)備選型

①.選型前，必須要有明確的補充水水質(zhì)報告、水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、循環(huán)水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)，如硬度、PH、懸浮物、

溫度、氯根、溶解氧等。

②.選型前，也必須明確系統(tǒng)的排污方式、自動化要求。

③. 在循環(huán)系統(tǒng)應(yīng)配套選用初過濾設(shè)備，以便收集排放水中的懸浮物及雜質(zhì)。

2．設(shè)備安裝

①. 總管原則：“防腐儀”一般應(yīng)安裝在進(jìn)水的總管道上，以控制系統(tǒng)整體水質(zhì)；若有分水器，應(yīng)安裝在分水器后的支管上。對于冷凍、冷卻循環(huán)水系統(tǒng)，應(yīng)分別安裝在用水或供水總管上。

②.獨立原則：“防腐儀”只能保護(hù)獨立的系統(tǒng)，即每個系統(tǒng)應(yīng)獨立安裝設(shè)備。不能在總管上安裝一臺設(shè)備處理全部的系統(tǒng)。

③.連續(xù)原則：被處理的系統(tǒng)、設(shè)備、管道，應(yīng)封閉連接，中間不能間隔其它設(shè)備或構(gòu)筑物；如：水箱、鍋爐、熱交換器、水泵或其它敞口擴容的設(shè)備等。否則，必須采用接力方式。
④.重要部位可采用旁通式安裝，以便在不停機狀態(tài)下檢修設(shè)備。
⑤.可水平、垂直或角式安裝，但必須保證管道設(shè)備內(nèi)為滿水流，不能倒空或有空氣。
⑥.設(shè)備的安裝位置離冷卻設(shè)備越近，處理效果越佳；但離墻面、主體設(shè)備的距離宜大于400mm。

⑦.若“防腐儀”的設(shè)備本體與控制箱要分體安裝，則設(shè)備本體與控制箱之間的距離一般不超過三米。